家登在做什麼的?
A: 家登主要產品可以分成三類:光罩傳載類、晶圓傳載類、機台設備類，其中光罩傳載類產品包括光罩盒、光罩儲存盒等，主要功能為儲存及傳送光罩；晶圓傳載類產品包括晶圓傳送盒、晶舟盒及LED基板運輸盒，主要應用在晶圓出貨至封裝廠使用；機台設備類產品包括光罩清洗機及光罩交換機等。
 
家登有哪些優勢?
A: 家登是半導體曝光機龍頭廠艾司摩爾(ASML)的EUV光罩盒供應商，以及曝光機零組件夥伴。全球只有兩家公司成為艾司摩爾的官方認證EUV光罩盒供應商，分別是:家登及英特格(Entegris)。
 
何謂EUV微影?
A: EUV（極紫外線，Extreme Ultraviolet 縮寫）微影，是使用通稱極紫外線之極短波（13.5 nm）光線的微影技術，能夠加工至既有ArF 準分子雷射光微影技術不易達到之20 nm 以下精密尺寸。EUV 微影技術的實用化，必須研發光源、光學系統、光罩、光阻、曝光裝置等各項要件技術，而激發具有極短波長13.5 nm 之強力EUV 光線的技術則是最大的課題。此種EUV 光線可自高溫、高密度電漿中取得。
 
如何自電漿取得EUV光線?
A:電漿的激發，分為對特定物質集中照射強烈雷射光束激發電漿的Laser Produced Plasma（LPP）法，以及在特定物質環境內透過電極流通巨大電流製造電漿的Discharge Produced Plasma（DPP）法等兩種方式。由電漿產生的光線經聚光鏡聚光，穿過通稱中間焦點（IF: Intermediate Focus）的點，經照明光學系統整型後照亮反射型光罩。光罩反射後的EUV 光，經投影光學系統成像於光阻，形成圖樣。
 
為何要使用EUV微影技術?
A:上一篇我們有提到IC 製造主要任務為把光罩的電路圖移轉到晶圓上，步驟大致有「薄膜→光阻→微影→蝕刻→清洗」接著重複數次循環直至完成。微影相當重要的一個步驟，目前普遍使用的是浸潤式（immersion）微影工藝，而 EUV 則是7 奈米以下先進製程的主流。根據ASML 說法，EUV微影技術可以顯著地減少薄膜、蝕刻和檢測的循環，達到降低成本的好處。總而言之，若想要達到更先進的製程，像是台積電現在的5奈米，甚至是目前在發展的3奈米，都須要利用到EUV微影這個技術。
 
家登後勢怎麼看?
A:因為高階半導體製程絕大部分都必須使用ASML的EUV微影設備，尤其是2330台積電這種製程領先的公司。而全球唯二ASML光罩盒供應商的家登俱備地利優勢，也長期保持與台積電的合作。而家登目前EUV光罩盒的市占率微全球第一。




      從月營收來看，家登其實並沒有穩健的成長；月營收年增率爆發力雖強，但很難持續維持爆發力，主要可能是偶爾的大單才造成營收爆發性成長。






     從股神系統的日線來看，3680家登已經三線翻空，且上面出現4個賣出訊號，格局明顯不對了；而從週線來看，雖然還是多頭格局，但是第三線太短，動能不足，第二線也快貼近零軸，即將陷入整理格局。不管從未來展望或是股神系統來看，家登都不是絕佳的標的，因此目前宜觀望。
 
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